icp光谱仪公司*** 钢研纳克

钢研纳克Plasma 1000 单道扫描ICP光谱仪仪器特点

1.   分析流程全自动化控制，实现软件点火、气路智能控制功能；

2.   输出功率自动匹配调谐，功率参数程序设定；      

3.   优良的光学系统，***的控制系统，保证峰位定位准确，信背比优良；

4.   较小的基体效应；      

5.   测量范围宽，超微量到常量的分析，动态线性范围5—6个数量级；

6.   检出限低，大多数元素的检出限可达ppb级；

7.   良好的测量精度，稳定性相对标准偏差RSD≤1.5%（5ppm），优于国家A等级标准（JJG768-2005）；

8.  

Rf输出功率的范围750-1500W，输出功率稳定性小于0.1%；

9.   光电倍增管的负高压可在0-1000V范围内独立可调，可根据不同元素的不同谱线单独设置条件，和全谱仪器比较有更好的检出限；

10. 纳克仪器采用高屏蔽和良好接地保证操作者的安全；

11. 精度较高的光室恒温系统，保证仪器优良的长短期精度；

12. 多通道蠕动泵进样，保证仪器进样均匀，工作稳定；

13. 使用钹铜弹片和特殊处理的屏蔽玻璃，在吸收紫外线同时使仪器辐射小于2V/m（JJG768-2005规定小于10V/m）。

14. 具有较高的谱线分辨率，能分出Hg313.154和313.183nm双线谱线，能分出铁的四重峰。

15. 人性化的软件设计，操作方便，终身免费升级。功能强大、友好的人机界面分析软件,可在测定过程中，进行数据处理，方法编制和结果分析，是真正的多任务工作软件；该软件数据处理功能强大，提供了多种方法，如内标校正、IECS和QC监测功能等，可获得的背景扣除点以消除干扰；对输出数据可直接打印或自动生成Excel格式的结果报告。

钢研纳克Plasma 2000 全谱ICP光谱仪参数

1. 光学系统：中阶梯二维分光光学系统，焦距400mm

2. 谱线范围：165nm~900nm，光学分辨率：0.007nm（200nm处）

3. 光栅规格：中阶梯光栅，52.67刻线/毫米，尺寸：100mm x 50mm

4. 晶体管固态射频发生器，小巧有效

5. 40.68MHz频率提高信噪比，改善了检出限

6. 自动匹配调节

7. 全组装式炬管，降低了维护成本

8. 计算机控制可变速10滚轴四道或两道蠕动泵，具有快速清洗功能

9. 实验数据稳定性良好：重复性

RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；稳定性：RSD

≤2.0%（大于3小时）

Plasma 2000 技术特点

1.  优异的光学系统

2.  固态有效射频发生器，体积更加小巧

3.  流程自动化，状态监控及自动保护

4.  科研级检测器，极高的紫外量化效率

5.  强大分析谱线

6.  信息直观丰富

7.  多窗口多方法

8.  编辑功能强大

9.  智能谱图标定

10. 智能干扰矫正

想了解更多产品信息您可拨打公司热线进行咨询！钢研纳克竭诚为您服务！

由钢研纳克承担的国家重大科学仪器设备开发专项“ICP痕量分析仪器的研制与应用”取得重要进展。本专项开发内容包括二维全谱高分辨ICP光谱仪和ICP质谱仪。目维全谱高分辨ICP光谱仪已解决了大面积CCD采集的瓶颈问题，接近于商品水平的产品样机将于年内完成；ICP质谱仪第二代研发样机已成功组装和调试，采集到正确的谱图，这一突破标志着在第二代样机上采用的自主设计的高真空系统、接口及离子传输系统以及射频发生器系统3个关键、难点技术已经实现原理***。为高质量、按期完成项目任务和本单位新产品开发任务奠定了坚实的基础。